详细目录：


第一篇 绪论
第一章 碳化硅的发展史
第二章 碳化硅的工业用途
第三章 国内外碳化硅的工业生产情况
第四章 国内外碳化硅材料研究的现状

第二篇 碳化硅的合成理论
第一章 碳化硅化学物理性质
第二章 碳化硅合成的物理化学原理
第三章 碳化硅制造方法与工艺
第四章 碳化硅生产设备及用料

第三篇 仿生哑铃形碳化硅晶须的制备
第一章 仿生哑铃形碳化硅晶须的制备方法与性质
第二章 仿生哑铃形碳化硅晶须的制备
第三章 仿生哑铃形碳化硅晶须形貌观察和表征
第四章 仿生哑铃形碳化硅晶须的微观结构

第四篇 碳化硅制备
第一章 概述
第二章 固—液—气相法合成碳化硅
第三章 空心碳化硅粉体的制备及其形成机制
第四章 LICVD法制备廉价纳米碳化硅粉体
第五章 激光诱导HMDS，DEODMS制备纳米碳化硅粉体
第六章 激光诱导SIH4制备纳米碳化硅粉体物理化学过程
第七章 热化学气相反应法制备碳化硅超细粉末
第八章 多炉芯法和无炉芯法合成碳化硅
第九章 射频测射法制备碳化硅

第五篇 碳化硅薄膜
第一章 LB膜以及含纳米粒子的LB膜的制备
第二章 3C—SIC膜的制备与表征
第三章 单晶硅衬底上4H—SIC晶态膜的制备
第四章 光学碳化硅薄膜的制备
第五章 碳化硅纳米薄膜和碳化硅纳米线的制备
第六章 电力电子材料碳化硅晶体薄膜材料的制备
第七章 碳化硅薄膜材料及其在高温传感器件中的应用

第六篇 碳化硅应用
第一章 碳化硅磨料工艺学
第二章 碳化硅耐火材料
第三章 碳化硅(6H-SIC)器件
第四章 反应烧结碳化硅质反射镜制备技术
第五章 碳化硅陶瓷的胶态成型
第六章 碳化硅网眼多孔陶瓷的制备
第七章 碳化硅复相陶瓷的摩擦磨损行为与机理
第八章 碳化硅合成金刚石

第七篇 样品中微量元素测定的预处理应用及碳化硅标样制备不确定度
第一章 C1、C2碳化硅标准样品制备
第二章 碳化硅样品中碳化硅不确定度评定

第八篇 碳化硅含量的测定
第一章 碳化硅—氧化铝含量的测定
第二章 碳化硅—游离硅含量的测定
第四章 碳化硅—二氧化硅含量的测定
第五章 碳化硅—碳化硅含量的测定
第六章 碳化硅—总硅含量的测定
第七章 碳化硅—五氧化二磷含量的测定
第八章 碳化硅一氧化锰含量的测定
第九章 碳化硅—三氧化二铁含量的测定
第十章 碳化硅—氧化钠、氧化钾含量的测定
第十一章 碳化硅一游离硅、总硅、碳化硅含量的测定

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